離子除臭設(shè)備工藝
離子除臭設(shè)備工藝
離子氧化脫臭工藝設(shè)備、工藝流程如下：
惡臭密封和收集———過濾設(shè)備——光離子反響群和噴淋清洗系統(tǒng)設(shè)備-----離心風(fēng)機(jī)后合格排放。
光離子群除臭技能是一種安全、牢靠的處理辦法。光離子群激活氣味分子分化的準(zhǔn)則，直接反響和其他直接的活化反響，氣體再次分化氣味分子相結(jié)合的一種高檔氧化技能，綜合利用離子的惡臭物質(zhì)的損壞惡臭物質(zhì)和氧氣的氧化來消除惡臭氣體中的硫化氫、氨、甲硫醇和其它VOC(揮發(fā)性有機(jī)化合物)。因?yàn)榭菰飾l件下的氧化影響有限，無法一起去除氨，以進(jìn)一步進(jìn)步噴淋清洗系統(tǒng)的去除率(噴淋水的排放污水處理生物處理系統(tǒng))。
工廠、車間、污水廠、廢物填埋場、養(yǎng)殖場等惡臭氣味產(chǎn)生的收集系統(tǒng)收集，經(jīng)光離子除臭設(shè)備的處理后，合格排放。
噴淋清洗系統(tǒng)包括水箱、循環(huán)泵，主動(dòng)補(bǔ)水，主動(dòng)排水設(shè)備。下降本錢，噴水需求收回，定時(shí)主動(dòng)更新。
產(chǎn)生氧離子氣體相對濕度靈敏。設(shè)備必須有設(shè)備處理風(fēng)。當(dāng)相對濕度高于95%確保氧離子和氧排放功率不會(huì)下降，并應(yīng)當(dāng)確保噴淋洗刷系統(tǒng)不會(huì)影響。
光離子除臭設(shè)備功能先進(jìn)、質(zhì)量牢靠；
?光離子產(chǎn)生器設(shè)計(jì)科學(xué),風(fēng)的阻力小，能耗低；
?系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)簡略合理，占地面積小，運(yùn)轉(zhuǎn)本錢低,杰出***征；
?系統(tǒng)運(yùn)轉(zhuǎn)安穩(wěn),抗沖擊負(fù)荷能力強(qiáng)，而且能夠用于確保排放規(guī)范的前提下，經(jīng)濟(jì)運(yùn)轉(zhuǎn)方式，以下降操作本錢；
?系統(tǒng)操作方式能夠依據(jù)運(yùn)用條件接連或間歇運(yùn)轉(zhuǎn)方式；
?沒有任何方式的二次污染環(huán)境；
?系統(tǒng)運(yùn)用壽命10年；
?系統(tǒng)主動(dòng)控制能夠沒有專業(yè)無人運(yùn)用。運(yùn)用簡略的操作和保護(hù)。
除臭設(shè)備應(yīng)該能夠采納兩種操作方式：
1、24小時(shí)的接連操作方式；
2、間歇運(yùn)轉(zhuǎn)方式:依據(jù)手動(dòng)設(shè)置時(shí)刻距離,完成系統(tǒng)的主動(dòng)發(fā)動(dòng)和封閉，或操作工人需求完成一個(gè)簡略的發(fā)動(dòng)和封閉。停機(jī)時(shí)刻為期一周后再次開機(jī),確保除臭設(shè)備能夠完成正常1小時(shí)的除臭功率。
除臭設(shè)備應(yīng)契合環(huán)境保護(hù)的要求醫(yī)治的作用。在正常工作條件和慣例氣候條件下，污染物氣體醫(yī)治后到達(dá)鄉(xiāng)鎮(zhèn)污水處理廠的***氣污染物排放規(guī)范》(gb18918 - 2002)二級排放規(guī)范，一起硫化氫去除率超越85%,氨、氮去除率85%以上。滿意GB14554-93排放規(guī)范。
